OFERTA PRODUSE

Sampon Antimatreata cu Sulf si Urzica Cosmetic Plant, 250ml

Producator: Cosmetic Plant

Sectiune: Produse Cosmetice

Categorie: Ingrijirea parului

Subcategorie: Sampoane

Cod produs: 107515

Id oferta: 107083

Disponibilitate: In Stoc

Timp de livrare: Maxim 5 zile

Vandut de: Esteto.ro

Pret: 17 Lei

Transport Gratuit
pentru comenzi peste 250 Lei
Garantia Calitatii
factura si declaratie conformitate
Cost Transport: 18 Lei
la comenzi mai mici de 250 Lei
Banii Inapoi Garantat
drept de retur in 14 zile

Descrierea produsului:

Sampon Antimatreata cu Sulf si Urzica Cosmetic Plant, 250ml: sampon pentru parul normal si gras, cu o formula cu peste 90% ingrediente de origine naturala, ce asigura o ingrijire optima, oferind o curatare delicata, fara a degresa excesiv scalpul. Contine sulf si acid salicilic cu actiune antiseptica si antiparazitara, iar datorita extractului de urzica bogat in clorofila, flavonoide si vitamine (A, C, B12, K), contribuie la eliminarea si combaterea eficienta a matretii, echilibrand in acelasi timp secretia de sebum si ajutand la cicatrizarea pielii si calmarea iritatiilor si mancarimilor. Lasa parul curat, matasos si stralucitor, plin de prospetime si usor de pieptanat.

Ingrediente: sulf, acid salicilic, extract de urzica

Aplicare: se aplica pe parul umed, se maseaza usor scalpul, se lasa sa actioneze 3-5 minute, apoi se clateste. Se repeta daca este necesar.

Tip par: Gras.

Tip scalp: Cu matreata.

Beneficiu: Curatare, Anti-matreata.

Cantitate: 250 ml.

Brand: Cosmetic Plant

Fotografia afisata are caracter informativ. Specificatiile produselor sunt informative, in conformitate cu datele transmise de catre producatorii sau distribuitorii autorizati. Acestea precum si pretul pot fi modificate fara instiintare prealabila si nu constituie obligativitate contractuala.

Alte produse din categoria Ingrijirea parului care te-ar putea interesa:


Acceseaza Versiunea Pentru Mobil


Autoritatea Nationala pentru Protectia Consumatorilor

Copyright © Esteto.ro  

Termeni si conditii.